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“基于第三代半导体光源的低投射比投影仪要害技能”通过科技成就评价--原创新闻_海南公司注册
发布时间:2021-05-07

  中国经济新闻网讯(记者 张丽敏)11月30日,中国高科技财富化研究会在上海严格凭据科技部《科学技能评价步伐》的有关划定,严格凭据科技成就评价的尺度及措施,本着科学、独立、客观、合理的原则,组织专家对由四川省院士成就转化基地成长有限公司研发的“基于第三代半导体光源的低投射比投影仪要害技能”项目举办了科技成就评价。

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  在听取项目完成单元的技能总结陈诉,并对评价资料举办审查后,评价委员会认为,本次研发将第三代半导体LED作为投影仪光源,不只实现了第三代半导体的局限化应用,也实现了投影仪产物的重大技能打破。

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  “低投射比的第三代半导体投影仪科技成就转化可应用于教诲、办公、影院、娱乐、告白等规模,并将快速形成财富链体系,发动周边经济布局转型,有效办理内地就业、发动处所上下游经济成长,对处所家产经济、行业成长具有重大意义。”据项目方四川省院士成就转化基地成长有限公司传授童玉珍先容,在“第三代半导体光源的低投射比投影仪要害技能”研发方面,今朝已自有授权软件著作权8项,发现专利8件、实用新型专利2件、外观专利1件。其还透露,公司已拟定针对相应投影仪产物的企业尺度和应用技能规程,并打算申请体例国度尺度项目。
  
  经专家评价委员会评审,该项目技能已到达国际先历程度,一致同意“基于第三代半导体光源的低投射比投影仪要害技能”通过科技成就评价并暗示,该项目制备了氮化镓基蓝绿光第三代半导体LED质料和器件,作为投影仪的光源,具有高电子密度、高迁移率、长命命、高光效、高色域的特性;其自主研发的折反式超短焦变焦投影镜,通过镂空非球面反射镜中心,海南代理记账,同时利用平面和球面反射镜折转光路,办理了同轴光束遮挡的要害问题,海南代理记账,实现了0.19的低投射比;以及通过两次化学镀层法在AlN陶瓷散热基板外貌匀称沉积了厚度为20μm的Cu层,并通过X射线衍射图谱确定AlN陶瓷基板与铜镀层间是以机器键合的方法团结,同时,利用新型的三元收缩散热通道,提高了系统的散热机能,海南省民企服务中心,淘汰了对空间的占用。
  
  

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